新微技术研发中心申请基于去离子水的解键合方法和设备专利提升解键合后基材的回收利用率
栏目:公司新闻 发布时间:2026-02-11 01:52:29

  国家知识产权局信息显示,上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种基于去离子水的解键合方法和设备”的专利,公开号CN121237664A,申请日期为2025年9月。

  专利摘要显示,本申请涉及半导体制造和光学元件加工技术领域,尤其涉及一种基于去离子水的解键合方法和设备,所述方法包括:去除键合件表面的残留颗粒和残留液体;将键合件浸入去离子水,使去离子水渗入键合界面;在去离子水渗透键合界面后,用工具分离上基材和下基材。本申请通过促使去离子水渗透键合界面存在的微间隙,破坏键合界面分子间作用力,避免键合界面电化学腐蚀或高温损伤,降低对基材的机械损伤,提升解键合后基材的回收利用率。

  天眼查资料显示,上海新微技术研发中心有限公司,成立于2013年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业,参与招投标项目484次,财产线条,此外企业还拥有行政许可46个。

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